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Bienvenue dans la collection HAL du groupe SCIPRA : Sciences et Ingénierie des Plasmas Réactifs et des Arcs
La démarche scientifique de notre équipe consiste à étudier l’ensemble de la chaîne d’un procédé plasma hors-équilibre depuis la source d’énergie jusqu’à la propriété finale du matériau élaboré/modifié en passant par la physico-chimie en phase plasma et l’interaction plasma-surface. Une spécificité importante et assez unique de l’équipe est d’exploiter un panel de réacteurs plasma couvrant un large champ d’exploration, de la basse pression (BP) (mTorr) jusqu’à la pression atmosphérique (PA) et des basses fréquences (quelques kHz) jusqu’aux microondes. Pour plus d'informations sur nos recherches
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Sujets
Adsorption
Thin SiO2 layers
Optical emission spectroscopy
Nanocomposites
Statistical analysis
Red fluorescent proteins
Thin SiOsub2/sub layers
Pulsed direct liquid injection
AFM
Charge injection
Dielectric Barrier Discharge
Silver nanoparticles AgNps
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Silicon oxynitride layers
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Drops
Dielectric materials
Fn
Aerosols
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Silver nanoparticle
Physico-chemical characterization
Pulsed Direct Liquid Injection
Electrode erosion
Electric Discharge Power Supply
MHD Simulation
Raman spectroscopy
Plasma processes
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MHD modeling
Nanotechnology
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BSA
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Ag nanoparticles
HVDC
DBD
RF MEMS capacitive switches
Bolsig+
AgNPs
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Silicon nanoparticles
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Nanocomposite
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Fluorescence
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SiO2
Plasmas
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Chemical analysis
Physico-chemical analysis
Stability
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Nanostructured dielectrics
Space charge
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